光刻机的原理并不难，甚至可以说是非常简单：就是把芯片设计图纸刻在一张不透光的膜上，然后用光照射就张膜，有刻痕的地方透光，形成完整的设计图案，再将这束光照射在涂了光敏胶的晶圆上，光敏胶遇光固化，于是就在晶圆表面形成设计图案，再将晶圆放到刻蚀药水里，光敏胶没有固化的地方被腐蚀，完整的芯片电路就被刻蚀了出来。

原理很简单，但实际做起来却很难，为什么？因为芯片的设计图纸与芯片的大小不是一比一的，而是相差了无数倍。一个高端芯片，图纸上设计的电路上的晶体管数量上百亿个，整张图纸可能好几百平方米那么大，但芯片只有指甲盖那么小，要将几百平方米大的图纸缩小到指甲盖那么大，再刻蚀在晶圆上，还要保证每一个晶体管不变形，每一条线路不粘连，这才是难点！

不说别的，用来将设计图纸按比例缩小的那些镜片，以中国目前的工业基础，就做不出来。这些镜片需要的精密度，是要求将这个小小的镜片放大到像太平洋那么大，表面仍然是平整的，起伏不能超过50厘米。这些最高精度的镜片，世界上只有蔡司一家能做，而且是专供阿斯迈，不外卖。这个镜片搞不掂，光刻机就是镜花水月。

中国目前的最高精度的车床甚至还要靠进口，进口的还不是别人最新的车床，工业基础的精度达不到，普通级别的光刻机可以做，但最高精度的那种，任重而道远。