我国能不能造出光刻机,看看光刻机的原理? - 资本家

我国能不能造出光刻机,看看光刻机的原理?

光刻机的原理并不难,甚至可以说是非常简单:就是把芯片设计图纸刻在一张不透光的膜上,然后用光照射就张膜,有刻痕的地方透光,形成完整的设计图案,再将这束光照射在涂了光敏胶的晶圆上,光敏胶遇光固化,于是就在晶圆表面形成设计图案,再将晶圆放到刻蚀药水里,光敏胶没有固化的地方被腐蚀,完整的芯片电路就被刻蚀了出来。

原理很简单,但实际做起来却很难,为什么?因为芯片的设计图纸与芯片的大小不是一比一的,而是相差了无数倍。一个高端芯片,图纸上设计的电路上的晶体管数量上百亿个,整张图纸可能好几百平方米那么大,但芯片只有指甲盖那么小,要将几百平方米大的图纸缩小到指甲盖那么大,再刻蚀在晶圆上,还要保证每一个晶体管不变形,每一条线路不粘连,这才是难点!

不说别的,用来将设计图纸按比例缩小的那些镜片,以中国目前的工业基础,就做不出来。这些镜片需要的精密度,是要求将这个小小的镜片放大到像太平洋那么大,表面仍然是平整的,起伏不能超过50厘米。这些最高精度的镜片,世界上只有蔡司一家能做,而且是专供阿斯迈,不外卖。这个镜片搞不掂,光刻机就是镜花水月。

中国目前的最高精度的车床甚至还要靠进口,进口的还不是别人最新的车床,工业基础的精度达不到,普通级别的光刻机可以做,但最高精度的那种,任重而道远。

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